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射频辉光放电光源中原子的形成和激发、电离机理的研究

批准号29575219 学科分类原子光谱 ( B040301 )
项目负责人任建世 负责人职称高级工程师 依托单位中国科学院金属研究所
资助金额9.00
万元
项目类别面上项目 研究期限1996 年 01 月 01 日 至
1998 年 12 月 31 日
中文主题词射频辉光放电 激发和电离 表面分析
英文主题词

摘要

中文摘要 国内首次研制成功了用于原子发射光谱分析rf辉光放电源,组装成功国内第一台rf辉光放电原子发射光谱分析系统。它可对固体(导体、半导体和绝缘体)进行分和表面逐层分析。高频振荡下电子在样品和阳极间反射,增加停留时间,增大容积离化,增加了对溅射原子和气体原子碰撞截面,提高溅射率。rf放电可以比直流辉光放电低得多的气压下工作,因此对提高元素测定下限和测定灵敏度非常有好处;实验表明:在优化放电条件下,rf溅射坑底平和边缘效应可达忽略不计,因而建立rf辉光放电分析和逐层分析新技术有广泛应用前景和巨大潜力。为新材料科学与工程基础研究,优化材料表面改性工艺和材料可靠性评估提供信息。
英文摘要
结题摘要

成果

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